Equipe Dopage LASER et Silicium Supra
Responsable : Francesca CHIODI
Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies
Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies
Le groupe s’intéresse à l’ultradopage du silicium par laser pour la microélectronique et la supraconductivité.
Il étudie les effets d’une transition de phase très rapide lors d’une interaction laser-surface. Le matériau de choix est le silicium (cristal parfait, applications potentielles) ainsi que le germanium et les alliages de la colonne IV.
Les couches fines de silicium supraconducteur sont caractérisées par analyse structurale et des mesures de transport à basse température.
Dispositifs quantiques tout silicium, tels que SQUIDs, Jonctions Josephson, et résonateurs supraconducteurs, sont ensuite réalisés à partir de ces couches dans une étude visant le développement de détecteurs supraconducteurs de photons et d’une électronique tout silicium.
Il étudie les effets d’une transition de phase très rapide lors d’une interaction laser-surface. Le matériau de choix est le silicium (cristal parfait, applications potentielles) ainsi que le germanium et les alliages de la colonne IV.
Les couches fines de silicium supraconducteur sont caractérisées par analyse structurale et des mesures de transport à basse température.
Dispositifs quantiques tout silicium, tels que SQUIDs, Jonctions Josephson, et résonateurs supraconducteurs, sont ensuite réalisés à partir de ces couches dans une étude visant le développement de détecteurs supraconducteurs de photons et d’une électronique tout silicium.
LISTE DES MEMBRES PERMANENTS DE L’ÉQUIPE
Francesca Chiodi
Dominique Débarre
Géraldine Hallais